Wpływ dawki prekursora procesu ald w na jakość warstw ar i as wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych,
[The influence of the ald process precursor dose on the quality of ar and as layers in the photovoltaic technologies used]
Artykuł naukowy w czasopiśmie recenzowanyCzasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (ISSN: 0033-2089)
Rok wydania: 2024
Strony od-do: 32-35
DOI: DOI: 10.15199/13.2024.7.7
Cytowanie w formacie Bibtex:
@article{1,
author = "Paweł Kwaśnicki",
title = "Wpływ dawki prekursora procesu ald w na jakość warstw ar i as wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych,",
journal = "Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania",
year = "2024",
pages = "32-35"
}
Cytowanie w formacie APA:
Kwaśnicki, P. (2024). Wpływ dawki prekursora procesu ald w na jakość warstw ar i as wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych,. Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania, 32-35.