Wpływ dawki prekursora procesu ALD w na jakość warstw AR i AS wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych
[The influence of the ALD process precursor dose on the quality of AR and AS layers used in the photovoltaic technologies ]

Prezentacja na konferencji krajowej

Nazwa konferencji: XXIII KRAJOWA KONFERENCJA ELEKTRONIKI
Miejsce: Darłowo,
Nazwa jednostki: Uniwersytet Morski w Gdyni